超高分辨场发射扫描电镜

应用领域及主要作用：扫描电镜以其高的分辨率，良好的景深及简易的操作等优势在材料学、物理学、化学、生物学、考古学、地矿学、食品科学、微电子工业以及刑事侦查等领域有广泛的应用。它可以对组织进行形貌分析，断口分析，元素定性和定量分析以及晶体结构分析。

技术参数：

二次电子分辨率:≤3.0nm @30kV,≤15.0nm@ 1kV背散射电子分辨率:≤4.0nm @30kV

放大倍率:最低倍率≤5倍，最高倍率≥300,000

样品台控制:5轴自动马达台，其中XYZ坐标轴行程:X≥0~100mm;Y≥0~50mm;z>5~65mm

最大样品高度:≥80mm

最大样品直径:Φ≥200mm

可以同时得到二次电子像，背散射电子像，两种图像混合像;可四幅图像同时成像;背散射电子可分别成像，并和二次电子任意叠加混合自动功能:自动灯丝饱和;自动束设定;自动电子枪对中;自动合轴;自动聚焦、消像散;自动亮度、对比度。